PTFEは、KOH開発者向けのストレージタンクを裏打ちしています

RanaのPTFE Lining KOH開発者ストレージタンクには、KOH開発者の強力なアルカリ度とフォトリソグラフィプロセスの高い純度要件を満たすように設計されたPTFEが並んでいます。 KOH開発者は、半導体フォトレジストの開発に使用されており、金属イオンや粒子などの不純物に非常に敏感です。 PTFEの不活性特性により、タンク材料が浸出して媒体を汚染するのを防ぎます。さらに、その透過性が低いため、COはKOHに入って反応してK₂co₃を形成することを防ぎます。これは、開発者のpH値を低下させ、開発者の有効性を確保します。

貯蔵タンクは、主に半導体コアボードと液晶パネルの製造に使用されます。そのデザインは、シームレスな内壁と簡単な-から-のきれいな構造を備えており、発達中の溶液の残留物を減らし、異なる溶液の置換を容易にします。タンクは、発達中の溶液に対する光と空気の影響を最小限に抑えるために、密閉された光-構造を回避し、フォトリソグラフィープロセスの安定性と精度を確保するために設計されています。これにより、半導体生産ラインの重要な補助デバイスになります。

人気ラベル: KOH開発者向けのPTFEの裏地付き貯蔵タンク、一般化学産業用の裏地付き船